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近日，荷兰相关部门宣布，对部分先进半导体制造设备实施新的出口管制措施，此举明显针对中国，而直接影响就是中国获得荷兰ASML公司的DUV光刻机也更为困难。
这个事情肯定是在美国的鼓捣下进行的，美国近年来一直拉拢荷兰、日本形成一个“芯片联盟”，以此来压制中国芯片领域发展。目前来看，美国的阴谋正一步步得逞，日本已在今年5月正式出台了关于半导体制造设备出口管制措施。日本方面给出的理由是“为了与美国合作，防止这些技术流向中国，从而被用作军事用途”。而荷兰这次给出的理由居然与日本一样，荷兰贸易部长施莱纳马赫声称，这些设备可能用于生产军事器材，“为了维护国家安全，我们决定采取这项措施。”
荷兰究竟干了什么呢？其实就是要求荷兰公司出口光刻机时必须获得许可证，才能把有关设备卖到海外。
全球最大的光刻机巨头、荷兰ASML公司表示，预计它的第二先进等级的DUV光刻机也需要出口许可证。这些设备用于制造电脑芯片。
荷兰已经禁止ASML公司对中国出售EUV光刻机和部分浸润式DUV光刻机。所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造。
ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i两款之前已被禁止。
据报道，ASML的四个浸没式光刻系统中的三个将受到新规则的限制。根据波长划分，DUV设备有四种产品序列，分别为ArFi、ArF、KrF、i-line，最高端的是ArFi，这也是ASML目前被主要限制的DUV光刻机范畴。ArFi、ArF属于第四代光源技术，波长为193nm，采用浸润技术，但这中国将买不到这种浸润式光刻机，因为美国和荷兰认为这些浸润式光刻机可以用于制造小于28纳米的芯片。
新措施定9月1日生效这对中国来说是一道分水岭，今后中国将更难买到荷兰ASMK公司的光刻机了。
（责任编辑：韩丽）
